為了滿足現(xiàn)代材料研究的挑戰(zhàn),Swift開發(fā)了一系列*可定制的原位拉伸試樣臺。這些拉伸試樣臺適合多種顯微觀測系統(tǒng),比如掃描電鏡、透射電鏡、光學(xué)顯微鏡、共聚焦顯微鏡等。支持EBSD,樣品加熱和冷卻,可實現(xiàn)...
查看詳情產(chǎn)品中心
Product Center當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心
product
產(chǎn)品分類021-64283335
Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測量。Alpha-Step臺階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測量,大垂直范圍和低觸力測量功能。 ...
查看詳情非接觸式優(yōu)點就是測量裝置探測部分不與被測表面的直接接觸,保護了測量裝置,同時避免了與測量裝置直接接觸引入的測量誤差。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計量技術(shù)。 ZDot 測量模式同時采集高分...
查看詳情Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟三維光學(xué)輪廓儀,其可以用于多種用途的高精度表面測量。我司有此機器可測樣。
查看詳情iNano高精度臺式納米壓痕儀是一種緊湊,用戶友好的納米機械測量系統(tǒng),設(shè)計用于硬涂層,薄膜和少量材料。該系統(tǒng)旨在進行準確,可重復(fù)的納米級機械測試,包括壓痕,硬度,劃痕和通用納米級測試。iNano具有很...
查看詳情Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對玻璃、半導(dǎo)體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料,又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測,其...
查看詳情Nano Indenter® G200原位納米力學(xué)測試系統(tǒng)是一種準確,靈活,使用方便的納米級機械測試儀器。 G200 測量楊氏模量和硬度,包括從納米到毫米的六個數(shù)量級的形變測量。 可測量聚合...
查看詳情SPRm200 表面等離子共振顯微鏡 工作原理基于表面等離子共振(SPR)技術(shù)。是世界上1st臺將表面等離子體共振技術(shù)和光學(xué)顯微鏡巧妙結(jié)合為一體的生物傳感檢測儀。
查看詳情與X射線用氮化硅窗口類似,透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小,適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...
查看詳情自由曲面三維面型檢測儀自由曲面光學(xué)元件應(yīng)用于智能車載顯示、AR 顯示、手機鏡頭、激光顯示、照明、 光刻等前沿領(lǐng)域,自由曲面三維面型檢測儀,能夠非接觸測量光學(xué)鏡面元件的三維面型數(shù)據(jù),開展三維輪廓分析和三...
查看詳情具備三維翹曲(平整度)及薄膜應(yīng)力的檢測功能,適用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)、半導(dǎo)體制程工藝開發(fā)、玻璃及陶瓷晶圓生產(chǎn)
查看詳情Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測儀具備化合物晶圓內(nèi)應(yīng)力分布測量及缺陷篩查等檢測功能
查看詳情高級研究型高光譜顯微系統(tǒng)結(jié)合了高光譜技術(shù)和顯微鏡技術(shù),能夠在不同波長范圍內(nèi)獲取高分辨率的光譜信息與生物樣品形態(tài)圖,實現(xiàn)在一張圖中同時獲取光譜和圖像信息。該系統(tǒng)還運用AI技術(shù)實現(xiàn)虛擬染色,大幅度提高病理...
查看詳情陣列式壓力傳感系統(tǒng)通過由前端柔性陣列式微機電壓力感測器及后端軟件界面組成,前端傳感器依所承受壓力呈現(xiàn)線性反應(yīng)變化,壓力越大則電導(dǎo)越高,再由后端軟件將接觸面壓力分布實時呈現(xiàn)并記錄,協(xié)助設(shè)備進行有效調(diào)整校...
查看詳情碳化硅SiC長晶設(shè)備是實現(xiàn)高質(zhì)量SiC晶體生長、高純度原料合成、高溫晶體熱處理的專業(yè)設(shè)備。廣泛應(yīng)用于SiC晶體生長、原料合成、晶體熱處理領(lǐng)域??梢陨L6/8英寸的晶錠。
查看詳情MPCVD金剛石長晶設(shè)備Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金剛石晶體生長系統(tǒng),是實現(xiàn)高質(zhì)量金剛石晶體生長、高純度晶體薄膜沉積、高溫晶體熱處理的...
查看詳情Desk V 鍍膜機使用一個2英寸的陰極進行濺射,由一個最大輸出為100毫安的直流電源驅(qū)動。使用傾斜/旋轉(zhuǎn)臺來實現(xiàn)好的樣品覆蓋,特別是在粗糙的表面。Desk V還可以在沉積前用蝕刻臺和快門對樣品進行預(yù)...
查看詳情